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작성자 : 김******** (t********) | 등록일 : 2025-12-12 | 조회수 : 12
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최종평가 8번문제

Gate oxide에 High-k물질 사용특성이, leakage가 증가하는 건가요?

기존 oxide가 너무 얇아져서 게이트쪽 전류가 leak되어 High-K사용하므로 두께를 두껍게 사용하려는 거 아닌가 해서요...
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